Conferencias de la Universidad Nacional de Córdoba, Congreso Internacional de Metalurgia y Materiales

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Estudio cinético-termodinámico de la formación de óxidos utilizados en aplicaciones ambientales y energéticas
Marcelo Ricardo Esquivel, Eugenia Zelaya

Última modificación: 07-07-2016

Resumen


Los óxidos base CeO2 son utilizados en dispositivos basados en procesos de  óxido reducción y transporte  del tipo  iónico y electrónico, tanto en aplicaciones ambientales como energéticas [1].  Al  ser tan amplio dicho rango, los procesos de síntesis y diseño tanto de la nano como de la  microestructura del óxido ganan protagonismo para cumplimentar todos los requisitos solicitados a las mismas [2]. En este trabajo, se sintetiza un óxido base CeO2 por oxidación directa de la aleación precursora en aire. Se caracteriza la cinética y la termodinámica de la formación del producto por mediciones isotérmicas y anisotérmicas por DSC (TA Instruments, 2910). Se estudia la morfología de reactivos y productos por SEM (Nova NanoSEM 230, FEI) y TEM (CM 200 UT, FEI)  y los aspectos nano y microestructurales por TEM y XRD (PANalytical Empyrean). Las estructuras halladas se refinan por el método Rietveld utilizando el software Fullprof.  La composición elemental se analiza por EDS (Nova NanoSEM 230)  y la termodinámica de la formación del producto por métodos de minimización de energía libre. Se determina que la aleación original presenta una fase principal descripta por el  grupo espacial (Fm3m)  con los lantánidos distribuidos en posición de Wyckoff 4.a y un parámetro de celda a = 4.0(5) Å. La cinética de la formación isotérmica es compleja con al menos dos etapas en paralelo/serie. El producto es una fase principal descripta por el grupo espacial (Fm3m) con un parámetro de celda a = 5.480(5) Å. En esta estructura, los lantánidos se hallan localizados en las posiciones de Wyckoff 4a y oxígeno en 8c. La morfología observada y los modelos de reacción gas sólido aplicados indican que el mecanismo de formación del óxido está controlado por procesos cinéticos asociados a nucleación y crecimiento con la morfología superficial apropiada para los dispositivos seleccionados [3].